财中社1月13日电 方正证券发布机械设备行业深度报告：光刻机专题（一）。文中写到关于光刻机的市场规模和格局：

1）全球光刻机市场空间：不同产线对于光刻机的需求搭配是不同的，通过量价的方式对于全球的光刻机市场空间进行测算，得到2021-2023年全球光刻机市场规模约为145、164、244亿欧元。细分类型来看，尽管分辨率更高的浸没式光刻机和EUV光刻机需求量比较小，但由于其二者价格显著高于更成熟的光刻机，因此其二者的市场规模也明显高于其他细分品类的光刻机。

2）全球光刻机市场格局：光刻机作为最尖端半导体设备品类，竞争格局呈现极高的集中度，且越高端的机型市场集中度越高。EUV光刻机市场由ASML垄断，ASML在浸没式光刻机市场的市占率在90%以上。在分辨率较为成熟的KrF和i-line领域，日本的两家公司的Canon和Nikony同样占据一席之地。

3）国内光刻机市场：光刻机整机市场大，国产化率极低，美方联合荷兰对我国半导体产业进行制裁，从整机到零部件供应链，光刻机的全产业链国产化是自主可控的必然结果。

4）国产光刻机产业链：国内真正对光刻机的攻关始于02专项，根据公开信息，上海微电子负责整机的设计和组装，光源、照明及曝光系统、工件台和浸没系统等由各个高校和科研院所牵头研发，在产业化的进程中孵化出了一批公司，如国科精密（投影物镜）、镭望光学（照明系统）、科益虹源（光源）、华卓精科（工件台）、启尔机电（浸没系统）等。

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